Alta pureco gaso neoksidebla ŝtala pneŭmatika diafragma valvo 1/4 cola alta premo
Produkta Priskribo
Specifo de pneŭmatika diafragma valvo
| Teknikaj Datumoj | ||
| Havengrandeco | 1/4 ″ | |
| malŝarĝa koeficiento (CV) | 0.2 | |
| Maksimuma laboranta premo | Manlibro | 310 trinkejo (4500 psig) |
| Pneŭmatika | 206 trinkejo (3000 psig) | |
| Laboranta premo de pneŭmatika aktuilo | 4.2 ~ 6.2 stango (60 ~ 90 psig) | |
| Laboranta Temperaturo | PCTFE ： -23 ~ 65 ℃ （-10 ~ 150 ℉） | |
| Filtrado (heliumo) | interne | ≤1 × 10-9 mbar l/s |
| ekstera | ≤1 × 10-9 mbar l/s | |
| Fluaj Datumoj | ||
| Aero @ 21 ℃ （70 ℉） Akvo @ 16 ℃ （60 ℉） | ||
| Prema falo de maksimuma aerprema stango (PSIG) | aero (lmin) | Akvo (l/min) |
| 0,68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3.4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
Puriga procezo
▶ Norma (WK-BA)
Ĉiuj velditaj artikoj estos purigitaj laŭ la normaj purigaj kaj pakaj specifoj de la Kompanio.
Kiam vi mendas, ne necesas aldoni sufikson
▶ Purigado de oksigeno (WK-O2)
Produkta purigado kaj pakaj specifaĵoj por oksigena medio povas esti provizitaj. Ĉi tiu produkto renkontas la
Postuloj de ASTMG93C Pureco. Kiam vi mendas, bonvolu aldoni - O2 post la mendnumero
▶ Ultra alta pureco (WK-EP)
Povas provizi kontrolitan surfacan finon, elektropoling RA0 dek tri μ m. Deionigita
Akva ultrasona purigado. Mendi, aldoni - EP post la mendnumero
Ĉiuj velditaj artikoj estos purigitaj laŭ la normaj purigaj kaj pakaj specifoj de la Kompanio.
Kiam vi mendas, ne necesas aldoni sufikson
▶ Purigado de oksigeno (WK-O2)
Produkta purigado kaj pakaj specifaĵoj por oksigena medio povas esti provizitaj. Ĉi tiu produkto renkontas la
Postuloj de ASTMG93C Pureco. Kiam vi mendas, bonvolu aldoni - O2 post la mendnumero
▶ Ultra alta pureco (WK-EP)
Povas provizi kontrolitan surfacan finon, elektropoling RA0 dek tri μ m. Deionigita
Akva ultrasona purigado. Mendi, aldoni - EP post la mendnumero
 | Ĉefaj strukturaj materialoj | ||
| Seria numero | Elemento | teksturo de materialo | |
| 1 | Tenilo | aluminio | |
| 2 | Aktuilo | aluminio | |
| 3 | Valva tigo | 304 SS | |
| 4 | Bonneto | S17400 | |
| 5 | Bonneta nukso | 316 SS | |
| 6 | Butono | latuno | |
| 7 | Diafragmo (5) | Nikelo -kobalta alojo | |
| 8 | valva sidloko | PCTFE | |
| 9 | valva korpo | 316L SS | |
Dimensioj kaj mendaj informoj
Rekte tra tipo
Grandeco
Grandecoj estas en coloj (mm) estas nur por referenco
Grandeco
Grandecoj estas en coloj (mm) estas nur por referenco
| Baza mendnumero | Havena tipo kaj grandeco | sizein. (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | 1/4 ″ tubo -W | 0,44 (11,2) | 0,30 (7,6) | 1.12 (28.6) | 1.81 (45.9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4 ″ FA-MCR | 0,44 (11,2) | 0,86 (21,8) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4 ″ MA-MCR1/4 | 0,44 (11,2) | 0,58 (14,9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0,44 (11,2) | 0,70 (17,9) | 1.12 (28.6) | 2.85 (72.3) |
Industrioj engaĝitaj
TFT-LCD
La procezaj specialaj gasoj uzataj en la procezo de deponejo de CVD de fabrikado de TFT-LCD estas silane (S1H4), amoniako (NH3), fosfino (ph3), nitra rusto (N2O), NF3, ktp. Krome, alta pureco-hidro kaj alta pureco nitrogeno kaj alia amaso de la ina pureco. Argono estas uzata en la sputa procezo, kaj la sputtered filmo formanta gason estas la ĉefa materialo por sputtering. Unue, necesas, ke la film-formanta gaso ne povas reagi kun la celo, kaj la plej taŭga gaso estas inerta gaso. Granda kvanto da speciala gaso ankaŭ estos uzata en la gravura procezo, dum la elektronika speciala gaso estas plejparte flamiĝema, eksploda kaj tre toksa, do la postuloj por gasa cirkvito kaj teknologio estas tre altaj. WOFEI-teknologio specialiĝas pri la projektado kaj instalado de ultra-alta pureco speciala gasa transdona sistemo.
Specialaj gasoj estas ĉefe uzataj en filmaj formantaj kaj sekaj gravuraĵoj en LCD -industrio. Ekzistas multaj specoj de LCD, inter kiuj TFT-LCD estas la plej uzata LCD-teknologio pro ĝia rapida responda tempo, alta bildiga kvalito kaj iom post iom pli malalta kosto. La fabrikada procezo de TFT-LCD-panelo povas esti dividita en tri stadiojn: antaŭa tabelo, meza ĉelo kaj malantaŭa modulo. La elektronika speciala gaso estas uzata ĉefe en la filmo formanta kaj sekajn gravuraĵojn de la antaŭa tabelo. Post multnombraj filmaj formantaj procezoj, Sinx-ne-metalaj filmoj kaj metalaj filmoj kiel krado, fonto, plonĝo kaj ITO estas respektive deponitaj sur la substrato.
Q1. Kio pri la plumpa tempo?
R: Specimenoj bezonas 3-5 tagojn, amasproduktado bezonas 1-2 semajnojn por mendokvanto pli ol
Q2. Ĉu vi havas iun MOQ -limon?
A: Malalta MOQ 1 pic.
Q3. Kiel vi sendas la varojn kaj kiom da tempo necesas por alveni?
R: Ni kutime ekspedas DHL, UPS, FedEx aŭ TNT. Ĝi kutime daŭras 5-7 tagojn. Flugkompanio kaj mara sendado ankaŭ laŭvolaj.
Q4. Kiel procedi mendon?
R: Unue sciigu al ni viajn postulojn aŭ aplikon.
Due ni citas laŭ viaj postuloj aŭ niaj sugestoj.
Trie kliento konfirmas la specimenojn kaj lokojn deponas por formala ordo.
Kvare ni aranĝas la produktadon.
Skribu vian mesaĝon ĉi tie kaj sendu ĝin al ni
